你感觉EUV光刻机难还是原子弹难？-随便找信息港

你感觉EUV光刻机难还是原子弹难？

　　问这个问题的基本上是对EUV光刻机不太了解的人，至于光刻机难度更难，还是原子弹更难，我们通过对比简单的数据就知道。

　　目前全球能出原子弹的国家并不少，已经部署原子弹的总共有8个国家，分别是外国，俄罗斯，中国，英国，法国，以色列，巴基斯坦以及印度。

　　另外日本、德国也具备原子弹的实力，只是他们不允许而已，还有包括伊朗，，巴西，南非这些国家也具有原子弹的潜力。

　　由此可见，目前很多国家都已经掌握了原子弹的技术，只是迫于国际压力，他们不敢明目张胆的出原子弹而已，因为原子弹的会受到国际的制裁。

　　而且目前已经造出原子弹的这些国家当中，大多数国家都是在上世纪70年代之前造出来的，比如外国在1945年就已经造出来，俄罗斯在1949年就造出来，中国在1964年造出来，即便最晚的印度在1974年也造出来了。

　　而光刻机的诞生是伴随着半导体产业的发展而诞生的，在上世纪60年代的时候，光刻机已经开始出现，但当时真正具备光刻机实力的也只有几个国家，分别是外国，日本，中国，德国等少数国家，但这些国家出来的光刻机技术都相对比较。

　　而目前全球最高端的EUV光刻机只有一个国家拥有，那就是荷兰的ASML，就连日本拥有尼康、佳能这样的顶尖巨头也造不出7纳米以上的EUV光刻机，所以目前全球的7纳米EUV光刻机基本上被荷兰的ASML一个企业垄断。

　　此外，因为7纳米以上光刻机技术难度更大，目前日本的尼康和佳能已经放弃了高端光刻机的研究，只保留中低端的光刻机。

　　而过去十几年，我国在光刻机研究方面也投入了大量的资金和精力，但是长期以来我国已经量产的光刻机也只不过是90纳米，虽然目前我国28纳米光刻机已经取得技术上的突破，但要真正实现量产也需要等到2021年，或者2022年。

　　就算我国28纳米光刻机生产出来了，但是跟荷兰asm7纳米光刻机的差距仍然是非常大的，所以短期之内我国想要出7纳米以上的高端高光刻机难度很大。

　　通过简单的对比之后，我们就可以发现EUV光刻机的难度，要远远比原子弹难度更大。

　　原子弹的其实不需要复杂的工程，需要使用到的产业链和配件并不是很多，原子弹最难的一个环节就是铀浓缩，只要把铀浓缩提炼出来了，那么原子弹就水到渠成了。

　　光刻机则完全不一样，目前一台高端光客机有几万甚至上10万个零部件构成，这些零部件都是行业内最顶尖的技术，一个零部件都需要经过反反复复的打磨，才符合高端光科技的要求。

　　比如之前外国一个工程师曾经说过，为了打造光刻机上的一个零部件，他反反复复打磨了10年时间。

　　由此可见，光刻机的技术要求是非常高的，也正因为如此，目前全球没有任何一个国家能够单独生产出高端光刻机，即便荷兰ASML垄断了全球7nmEUV光刻机，但是他们90%以上的零部件都是依赖于从外国，德国，日本，中国，韩国等一些国家或地区进口。

　　比如asml的光源来自于外国企业，镜头来自于德国的蔡司，光罩来自中国等等。

　　这里面单是镜头和光源就是让人头疼的一件事情，比如德国蔡司提供的镜头技术难度到底有多大呢？我们举一个很简单的例子，如果把一个小小的镜头比作整个德国的国土面积，那么最高凸起的地方不能超过一厘米，大家自己想象一下这个要求到底有多高。

　　也正因为EUA光刻机技术难度就太大，所以目前真正掌握EUV光刻机技术的国家只有荷兰一个，其他国家即便有精力有资银行信息港入，短期之内也不可能研究出来。

　　毕竟EUV光刻机所需要的几万个零部件，短期之内某一个国家不可能完全生产出来的，它需要多个国家多个企业共同努力，共同合作，才能打造出高精尖的光刻机。

　　但在一些核心零部件上，目前西方国家一直对我国进行技术封锁，这也是为什么我国十几年来光刻机研发进度非常缓慢的一个重要原因，因为我们所有核心零部件都需要自己一步一步的从0开始研发，所以难度是非常大的。

　　总之，原子弹只要你掌握了原理，并把铀浓缩提炼出来之后就可以出来，但是光刻机即便把所有的零部件放在你面前，让你自己组装，你也未必能够生产出合格的EUV光刻机，这就是原子弹跟光刻机的区别。

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