发布时间:2020-08-17 16:07:32 文章来源:互联网
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中国谁能率先做出世界领先的光刻机?广东还是江浙?

  提起光客机,很多网友都会有一种莫名的失落感,特别是最近一段时间,我国有些企业被欧外一些国家封锁之后,我们进一步意识到了光刻机对于我国芯片制造的重要性。

  光刻机作为芯片制造过程中最核心的一个环节,光刻机的精度直接决定了芯片的精度。我国在高端芯片上之所以被人卡住脖子,因为我们没有能力制造出7纳米以上的芯片,而我们之所以没有能力制造出7纳米以上的芯片,有很大的一部分原因,就是因为我们国内没法独立自主生产出高端光刻机。

  目前我国自主研发并已经量产的光刻机最高工艺只有90纳米,而且这90纳米早在2007年的时候已经研发出来,但是从2007年到现在已经过去13年了,我国仍然继续停留在90纳米光刻机的技术层面上。

  虽然目前我国已经成功研发出了28纳米的光刻机,但当前仍然在调试阶段,预计要到2021年到2022年之间才能正式量产。

  而且即便我们28纳米光刻机完成量产了,跟世界顶尖水平仍然有很大的差距。目前全球最顶尖的光刻机企业是荷兰的asml,他们已经成功量产7纳米EUV光刻机,而且目前5纳米光刻机也在研发阶段,估计不久的将来他们也会获得技术上的突破。

  看到这估计很多关心我国芯片行业的人都有疑问了,我国光刻机什么时候才能赶上世界先进水平,甚至领先世界呢?如果有朝一日,我国光刻机能够达到世界领先水平了,会由有哪个省先造出来?是国企还是类似这样的民企?

  首先目前具备光刻机研发实力的省份就那么几个,比如上海的微电子、安徽合肥芯硕半导体,江苏无锡影速半导体,河北邢台先腾光电。

  在这些企业当中,真正具备较强科研实力和市场竞争力的也就是上海微电子,目前上海微电子已经研发出28纳米的光刻机,这个光刻机通过多次曝光之后,可以用于生产14纳米甚至是10纳米的芯片。

  而其他光刻机生产企业他们基本上都处于比较落后的状态,工艺制程基本上都是在200纳米以下,这些光刻机勉强能够生产一些中低端的芯片。

  由此可见,按照目前我国光刻机生产企业的实力来看,最有可能在光刻机技术上实现突破的,我认为是上海的微电子,或者上海其他企业。

  而假如未来上海能够在光刻机领域实现技术上的突破,这里面有可能会有的贡献。

  最近一段时间明显已经在加快芯片独立自主的步伐,不仅要建立自己的芯片制造,还有可能跟其他企业合作研发光刻机。比如前段时间任正非就密集的访问了上海交通大学,复旦大学和东南大学,此行其实就是为了跟各大高校合作打下基础。

  另外目前在上海已经建了一个超级研发基地,这个研发基地占地几千亩,预计建成之后将有数万科研人员入驻,的这些举动将为推动我国芯片的发展注入活力,也为上海芯片产业的发展注入更多的活力。

  在上海本来就拥有技术基础的前提下,再加上这些企业的推动,我相信未来上海的芯片产业仍然会继续处于全国领先的位置,我国光刻机能否实现突破,最关键也要看上海相关企业的发展。

  当然光刻机是一个庞大而复杂的工程序,一台高端光机有数万个零部件构成,这里面任何一个企业都不可能独立完成,比如全球最顶尖的光刻机制造商asml目前有90%以上的零部件也是依赖从外部进口。

  所以对我国光刻机来说,想要尽快实现技术上的突破就不能单打独斗,而是应该整合国内的优势资源,让相关企业参与到整个光刻机产业链的研发当中,只有这样才有可能早日实现我国光刻机技术上的突破和独立自主。

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