发布时间:2020-07-19 11:50:46 文章来源:互联网
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中国半导体光刻设备研究什么时候才能真的用上

    我们一直在猜测,到底我国的光刻机设备,现在达到了什么水平?是不是能够媲美荷兰的ASML呢?实际上,我们确实有点多想了,虽然说我国的光刻机技术在不断的进步,但是确实离ASML有一段不小的距离。

    为何我国光刻机发展缓慢呢?
 
    一方面,我们知道的是,在光刻机中,实际上是容纳了将近80000多个零部件,在这里面包括了高纯度化学试剂、高密度封装基板、电子气体、离子注入机、晶圆划片机、气相外延炉、磁控溅射台等等。你可以想象这些内容包括众多的零部件,对于我们来说,实际上有着极其重要的结果,因为这是来自世界各地,因此我们确实缺乏零部件的供给。
 
    另一方面,我们必须要知道的是。因为瓦纳森协议,我们在技术方面确实会缺少西方国家的技术支持,特别是以为首的西方国家,让我们在技术方面,特别是在半导体技术方面缺乏很多重要的技术共享。
 
    实际上,ASML的成功不是一蹴而就的,它的很多技术包括专利,其实把握在人手中。在这种情况下,对于我国来说,发展光刻机技术确实充满了挑战。
 
    但是,我们必须要看到的是,虽然我们现在量产的是90nm工艺制程,但是我们必须要知道,上海微电子已经宣布成功研发出22nm的光刻机,借助紫外线光源实现22nm分辨率,对于我国的光刻机技术,确实有了十足的提升。
 
    我们必定会打破束缚,真正的走上一条,弯道超车的路。

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