传上海微电子研发出11nm光刻机，请问是真的吗？到底有谁知道？-随便找信息港

传上海微电子研发出11nm光刻机，请问是真的吗？到底有谁知道？

　　根据目前的传言，上海微电子年底将下线28nm节点浸没式光刻机，而这台光刻机按照现有的套刻精度可以用于11nm制程芯片的生产，如果使用的套刻精度更高则可以用来生产7nm工制程芯片，当然在具体生产时需要进行多重曝光。

　　目前上海微电子官方未正式对外公布，只是业内小道消息，那么这个传言可信度如何呢？

　　个人认为这则消息还是比较可靠的，为什么说可靠呢？

　　因为我们可以从整个光刻机产业链上的一些动向能做出判断，将各个渠道的消息相互佐证后能得出一个较为明确的结果。大家一起来跟我看看，有哪些信息可以证实28nm光刻机即将下线的传言。

　　国家十三五规划层面：在我国的十三五规划中已经明确要求研发成功28nm节点光刻机以及实现产业化，而2020年是十三五规划的最后一年，因此从时间上来看，年底是这一个规划的最后时限了。

　　上海微电子相关举动：在2019年末的时候，曾经公开过型号为SSB800的光刻机外观专利和控制界面信息，而当前量产机型中并没有此型号，显然这是研制中的最新光刻机型。

　　㓎液系统生产厂商动向：㓎液系统是光刻机的核心子系统之一，目前国产光刻机的最新㓎液系统由浙大团队研发，浙江启尔机电产业化生产。在2020年这个厂商在官网曾经公布了年底首台国产光刻机交付的信息，同时浙江启尔机电的青山湖基地（效果图见下方）正在抓紧建设中，这个基地就是用来生产㓎液系统。

　　光源发射器厂商动态：2020年4月有媒体报道科溢虹源入驻徐州开发区，同时还提到了年底将实现和光刻机的集成。而这家厂商是中科院下属企业，也是准分子激光光源发射器生产厂商，也就是为光刻机提供核心子系统之一光源的产业化厂商。

　　从以上5个层面的消息综合来看，国家层面有大战略规划，具体的系统制造商上海微电子已经提前公布最新光刻机外观专利，同时光刻机两大核心子系统生产厂商已经在大规模建设生产基地，并且也都提到了具体的交付时间。

　　由此，我们可以判断28nm节点光刻机年底下线这件事消息可信度极高。

　　当然这台机器年底不会量产只是研制成功下线，真正大规模量产肯定还得要个1-2年时间。一旦这台光刻机量产，基本意味着我们最少能实现11nm制程芯片生产，如果发挥到极致的话通过多重曝光可以实现7nm制程工艺。

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