中国芯的前进道路一直困难重重，一方面源自于技术的落后差距，另一方面还需面对他方的技术封锁。

国产高端芯片制造仍依靠ASML。

三星、台积电这类一流芯片制造商现以 7nm 制程工艺为主，未来还会向更先进的 5nm 制程工艺进发。而荷兰光刻机供应商ASML是目前全球唯一一家能够提供极紫外光（EUV）或更先进制程光刻机的供应商。

而咱国内先进芯片制造的重任是落在中芯国际上。就目前而言，要想有所建立优势还是得依靠ASML光刻机设备。以避免于与三星、台积电继续拉大技术差距！

在实体清单事件的影响下，台积电可算是扛住压力了，可持续为芯片代工。而近日光刻机巨头商ASML却以出口许可（export license）尚未获得荷兰政府的核准和发放为由，延迟极紫外光刻机（EUV）向中芯国际供货。

国产光刻机的现状问题。

目前而言，国内光刻机处于技术领先的是上海微电子，其最先进的ArF光源光刻机为 90nm 制程工艺。其所代表着的是国内光刻机最先进的水平。未来有望逐步实现45、28 nm。

但要坦诚的一点是，上海微电子公司起步较晚且技术积累薄弱，在技术差距方面与ASML的差距是巨大的。当咱们还在90nm制程工艺徘徊时，ASML的7nm光刻机已成熟使用，并向更为先进5nm制程工艺进发着…显然国内光刻机还难以担当高端芯片制造的重任。

长期以来中芯国际一直扮演着的是中国最先进芯片代工厂的角色。而这里我们若有所思的是，倘若ASML 的极紫外光刻机（EUV）一直无法获得进入中国的批准和审核的话，那对于我国芯片制造业造出更先进的芯片来说或是沉重的一击。