中国最新光刻机(我们的进度还好吗)

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国产极紫外euv光刻机研发进度

暂时没有新突破。

我国目前光刻机最新的是上海微电子去年底通过技术检测和验证的28纳米duv光刻机，预计今年可以量产。对于euv极紫外光光刻机，目前暂时还没有新的突破，像中科院的euv光源、长春国科精密的曝光系统、长春光机所的镜头组目前还无法达到euv等级。

2023年中国将造出EUV光刻机三年之期将至，我们的进度还好吗

说“中国将造出EUV光刻机”的人，说的不是“三年之期”吧，而是“十五年之期”。

“2023年中国将造出EUV光刻机”这个话肯定是误传。据报道，在2021年，荷兰ASML的CEO说“不卖中国光刻机，大概3年后中国就能掌握这个技术了”，被我国北大国发院名誉院长林毅夫作了公开引用，而且引用达2次，环球时报对第一次引用作了报道；无论谁，都只说了“光刻机”3个字，都没有加上"EUV“这个限制词、专用语。可以肯定，CEO和林毅夫绝没有可能分别说出、随声说出这么不靠谱的话，而《环球时报》在报道之前一定做过认真核对，如果发现说的是中国3年后掌握EUV技术，就有可能不予报道，尽管3年后是个“大概”数。

中国版光刻机真的造出来了！上海市作了发布，90nm的光刻机，在2022年突破了全部整机技术；记得吧，在2016年还通过了1次验收。那么，CEO和林毅夫预测的是中国将在3年后掌握低端光刻机的技术，而中国“提前1年”？当然不是，因为这样的光刻机在2021年那时，美国和荷兰两国政府是继续让ASML卖的，现在仍在继续，必将继续到未来；同时，包括最先进DUV在内的中端光刻机也让卖给中国，全都不在CEO所说的“不卖”的光刻机之列。

ASMLCEO是说中国大概3年后就能掌握DUV光刻机技术？按“3年后”这个说法，只能是！我猜测，CEO那时预测到美国政府也会不让卖给中国DUV光刻机，部分甚至全部不让卖，才公开发声，预先提示美国以及本国的政府，更是预先请求，而美国在2018年和2019年施压荷兰时，就包括不让卖给中国最先进的DUV光刻机。果不其然，2022年7月，美国第三次施压荷兰扩大对中国禁售范围，重点是DUV中最先进的型号——浸没式DUV光刻机（ArFi)。其实，用不着CEO预测，三年之期确实将至，中国科学院早在2020年就公开说国产28nm浸没式光刻机正在研制攻关，意味着那时就基本掌握了这个技术，能不能在2023当年成功下线？有可能不能，因为美国去年断供了备件。

2021年实际上“不卖中国”的光刻机倒真是/只是EUV。大概，这就是误传CEO以及林毅夫说“2023年中国将造出EUV光刻机”的唯一“根据"吧。中芯国际从2018年至今，一直没有买来ASML当初说好了卖给的那台EUV。

CEO预测中国版EUV光刻机将在什么时候造出？分明是15年嘛！听听林毅夫没引用的ASMLCEO所说的这段话就清楚了：“如果采取出口管制措施将中国市场拒之门外，这将迫使他们争取技术自主权，......在15年的时间里，他们自己将能够做出所有的这些东西”。“所有的这些东西”，无非是低端、中端和高端的光刻机，中国将先后拥有，终至全部拥有、全都自主；CEO说的当然是光刻机，不会说别的什么东西。CEO认为，从2021年算起，中国将在2035年造出EUV光刻机，有可能提前（说的是“15年的时间里）。显然，十五年之期比起三年之期，预测很不乐观，却靠谱，中国可以说什么都不缺，越来越不缺什么，只差在研制EUV光刻机的周期特别长，天然特别长。何况主要是一国研制。

国产光刻机进展到什么程度了

国产光刻机进展的程度如下。

作为国内唯一一家，全球四家之一的光刻机制造公司，上海微电子于今年通过了28纳米光刻机的技术检测和认证，目前应该处于量产阶段。该光刻机属于第四代duv光刻机，28纳米算是中端光刻机了。上海微电子将在明年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机，这代表着国产光刻机最先进的技术水平，国产光刻机在大幅缩短与海外的技术差距。

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