发布时间:2020-09-15 11:46:16 文章来源:互联网
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为什么EUV光刻机难还是原子弹难?

  还是原子弹难!EUV光刻机相对简单!

  EUV光刻机确实很难,现在世界上也只有荷兰ASML公司能够制造出来这样的光刻机。但是对于我们来说,在EUV光刻机上已经有一些技术储备,现在可能只需要动用几个研究所加上大学加上光刻机厂家就足够了,可能短则两三年,长则五六年就能够获得突破,成功制造出来EUV光刻机。

  原子弹显然是更难一些,原来我们搞原子弹的时候,面临着技术封锁以及物资等各方面的封锁,而且当时世界上也就是极少数国家有这个原子弹技术。但是当时的情况下,搞出来原子弹,就意味着国家拥有了威慑力量,就意味着没有人胆敢再去轻易惹你,于是在当时非常困难的条件下,我们开始举全国之力来搞原子弹,最终历经数年搞出来了原子弹,并且搞出来了氢弹,而且导弹技术也是获得了快速的突破,拥有了洲际弹道导弹技术,拥有了更强的威慑力量。显然在当时的条件下,搞出来原子弹是更难一些的。

  现在对我们来说,想搞出来EUV光刻机可能也不算太困难的事情,我国工业体系非常完善,是全球拥有最完善制造业体系的国家。而且我国在历史上也有光刻机的研发,而且我国有几个研究所已经对EUV光刻机做了很多年的研究和技术储备,再加上我国上海微电子已经研制出来了28纳米光刻机,可能会在明年或者后年交货。

  这款28纳米光刻机,应该是193nm duv,也就是采用了193nm光源的光刻机。而台积电前两年生产第一代7nm芯片是采用的使用的就是193nm光源的光刻机,而之前上海微电子生产的90nm光刻机使用的是365nm的光源,还有上海微电子最近10年的研发费用只有区区6亿元人民币,还没有一台光刻机的价格贵,这就能搞出来193纳米光源的DUV光刻机可能也算是非常牛了。

  因此,从现在我国光刻机的研发情况来看,我们的差距可能并没有想象中那么大,也没有某些人说的那么大,而且对于我国非常有利的还有市场规模。根据海关统计,我国2019年半导体进口金额达到了3040亿外元,折合人民币达到了2.1万亿元的规模,这么大的规模,其中大部分都是能够采用国产193纳米DUV光刻机进行制造的。

  在这样的情况下,我国EUV光刻机如果加大重视力度,开始集中人力物力提速研究开发,那么我国有可能很快就能够拥有EUV光刻机的技术,就能够在未来的几年内生产出来先进的EUV光刻机产品。

  综上所述,原子弹更难,而EUV光刻机显然更简单一些,而且我们已经研发出来了193纳米的DUV光刻机,未来只要我们加大研发力度,更加重视,那么可能很快我们就能够拥有自己的EUV光刻机产品了。

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