发布时间:2020-07-16 17:12:57 文章来源:互联网
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中科院5nm激光光刻,是否意味可以取代荷兰的ASML光刻机?

    中科院的5nm激光光刻,是否意味着摆脱了EUV?众所周知,半导体制造领域,要想生产5nm芯片,必须要使用荷兰ASML的EUV光刻机,而荷兰的ASML是全球唯一的能够量产EUV光刻机的公司,我国大陆至今没有一台EUV光刻机,可以说是一项“卡脖子”的技术。

    中科院的“弯道超车”?
 
    最近,中科院研发成功了新型的5nm超高精度激光光刻加工方法。
 
    光刻机最重要的指标就是光刻分辨率,波长越短,数值孔径NA越大,光刻精度就越高。荷兰ASML的EUV光刻机,从之前的193nm波长变成了13.5nm波长的EUV极紫外光。
 
    中科院的5nm光刻技术,采用了完全具有自主知识产权的激光直写设备,利用激光与物质的非线性相互作用,提高了加工分辨率,可以制备5nm线宽的工艺。
 
    距离量产“任重道远”
 
    中科院发布了最新研究成果之后,就被各路媒体热炒,大有取代荷兰ASML的EUV光刻机的趋势,然而,还是那句话,实验室取得的技术突破,并没有达到量产的程度。从中科院发表的论文里,没有提到光刻机的字眼,也没有强调这种技术用来生产半导体芯片,这些天中科院也在辟谣,就跟两年前的10nm光刻新闻一样。
 
    目前,我国最先进的光刻机是上海微电子的90nm光刻机,消息称,上海微已经突破了26nm工艺制程的光刻机,预计明年量产。然而,距离荷兰的AMSLEUV光刻机差距依然很大,至少有15年的差距,后者能够生产5nm工艺的芯片。上海微电子也仅仅是系统集成商,关键零部件来自于外来,很多超高精密的仪器、光源、计量设备对我国是禁运的,因此,只能依赖国内供应商。
 
    总之,光刻机已经成为一个高度垄断的行业,荷兰的AMSL几乎垄断了所有的高端光刻机市场,台积电、三星、intel、海力士等与荷兰的ASML形成了利益共同体。随着,我国在光刻机领域的深入研究,必定有更多的研究成果,同时,我国在碳基芯片领域也有所突破,有望代替现在的硅基芯片。

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