发布时间:2020-07-01 12:51:42 文章来源:互联网
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我国能生产光刻机吗?

    我们确实备受光刻机的困扰,最令我们感觉无奈的事情是,目前最强的ASML的7nmEUV工艺制程确实令我们感觉很无奈,因为我们并不能够使用该技术。

    所以,我们目前最强的中芯国际,能够量产的只有14nm工艺制程,即使中芯国际目前的N+1,N+2等等技术,虽然无限接近7nm工艺制程,确实很难达到真正的台积电的7nm工艺。听着好像是长他人志气,灭自己威风,可事实上我们也知道的是,目前我国光刻机技术,还完全达不到台积电的代工的特点,也达不到ASML光刻机的技术。
 
    可是,我国并非没有能力制造光刻机,目前我国的光刻机是上海微电子的90nm工艺光刻机,这项技术确实很难达到我们对于7nmEUV,甚至于5nm工艺制程的需求。
 
    确实最近有好消息,上海微电子日前宣布:在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。如果多轮曝光,还可以达到14nm,我们确实能够看到上海微电子的进步,但是和ASML即将推出的5nm工艺制程相比确实还存在一定的距离。
 
    我们确实没有ASML技术厉害,可是我们得知道的是,我们技术是受限制的——
 
    1.荷兰ASML的技术是80000个零部件,这些零部件是来自于世界各地,有,德国等等国家的先进技术。
 
    2.因为瓦森纳协定的影响,我国的技术确实受到西方技术的限制,在发展方面确实很难突破限制,这种技术的限制确实是目前我们在光刻机中发展受限的原因之一。
 
    其实,我国光刻机想发展确实需要打破西方束缚,这种束缚除了技术的限制,更主要的还能够弯道超车,能够真正走出一条我国自己的光刻机之路,这才是我们需要解决和努力的

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